芝浦工業大学のプレスリリース

従来評価困難だった半導体配線界面の化学構造変化の直接可視化に成功～AFM-IRによりCu/Low-k絶縁膜界面のナノメートルスケール化学構造変化を解析～

• 発表会社
• 芝浦工業大学

• 配信日時
• 2026-08-28 11:20:09

• カテゴリ
• 調査報告

• 業種
• その他IT・インターネット

• 配信元
• Digital PR Platform