「第54回国際電子回路産業展」出展のお知らせ

旭化成株式会社（本社：東京都千代田区、社長：工藤 幸四郎、以下「当社」）は、2025年6月4日（水）～6日（金）に東京ビッグサイトで開催される電子回路関連技術の展示会「第54回国際電子回路産業展（JPCA Show 2025）」に出展します。電子回路の設計や製造に貢献する開発中の3つの技術やコンセプトを展示します。
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本展示会のブースイメージ

■ 展示会概要
会期：2025年6月4日（水）～6日（金）10:00～17:00
会場：東京ビッグサイト　東展示棟
当社ブース：6B-01
展示会公式サイト：https://www.jpcashow.com/show2025/

■ 展示技術概要
・ノンハロゲンウレタンアクリレート
CO2誘導体を活用した独自技術で製造したイソシアネートを原料とすることで、ノンハロゲン※化を実現し、ソルダーレジスト（プリント基板の表面に塗布される保護材料）など高い絶縁性を要する部位に活用されます。
※ノンハロゲン：燃焼時にダイオキシン類などの有害ガスを発生する恐れのあるハロゲン元素（フッ素、塩素、ヨウ素など）を使用しないこと。
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ノンハロゲンウレタンアクリレート
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用途例：カメラモジュール

・酸化銅ナノインク
粒径が小さいCu2O（酸化第一銅）を主成分とし、粘度や溶媒が任意に選択可能です。幅広い印刷方式に対応し、100μm幅の微細な三次元配線が可能です。また、当技術を活用したメタマテリアル※作成技術のコンセプト展示も行います。
※メタマテリアル：自然界には存在しない、人工的に設計構築された構造材料。電磁波や音波の制御が可能で、通信機器の高性能アンテナやノイズ低減材料などに活用される。
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酸化銅ナノインク
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曲面メタサーフェス


・ケイ素系光学接着剤
高い透明性と高出力短波長光への耐性を両立するだけでなく、分子構造と製造プロセス最適化によって、材料由来の低分子シロキサンガス※発生を検出下限以下に抑制します。
※低分子シロキサンガス：シリコーン系接着剤など、シリコーン製品から発生するガスの一つ。電子部品などに付着すると接触不良などの異常の原因となることがある。
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ケイ素系光学接着剤
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用途例：電子材料用接着剤


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