国際シンポジウム「Photomask Japan 2026」に参加

ニューフレアテクノロジー(NFT)は、2026年4月8日から10日までパシフィコ横浜アネックスホールで開催された「Photomask Japan 2026」に参加しました。


本学会は、 ホトマスクジャパンとSPIE（国際光工学会：The International Society for Optical Engineering）が毎年開催する国際シンポジウムで、フォトマスクおよび次世代リソグラフィーマスク技術について、幅広い報告が行われました。


NFTは、特別プレイベント企画「チュートリアル」の「描画」セクションの講演を担当しました。また、マルチ電子ビームマスク描画装置MBMTM-4000に関する最新の研究成果についてOralで1件、Posterで１件、計2件の発表を行っています。


< Photomask Japan 2026でのNFTの口頭発表／ポスター発表>


Tutorial: Drawing
Presentation Title: A History of E-Beam Mask Writers and Their Role in Semiconductor Manufacturing
Speaker: Rieko Nishimura


Oral Presentation
Writing and Patterning 14-3
Presentation Title: Multi-beam Mask Writer MBMTM-4000: Enhancements and Latest Performance
Presenter: Yusuke Saito


Poster Presentation
10-40
Presentation Title: Resist Heating Effect Correction in Multi-beam Mask Writer MBMTM-4000
Presenter: Haruyuki Nomura


関連リンク：
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以上

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