リガクのＸ線技術が「地方発明表彰」で特別賞を2件受賞

リガクのＸ線技術が「地方発明表彰」で特別賞を2件受賞

リガク・ホールディングス株式会社は、Ｘ線分析装置の世界的メーカーである株式会社リガク（本社：東京都昭島市 代表取締役社長：川上 潤、以下「当社」）の「高精度薄膜（半導体）構造解析Ｘ線分析方法」と「蛍光Ｘ線分析用点滴乾燥試料保持具」の2件の特許技術が、令和5年度の地方発明表彰（主催：公益社団法人 発明協会）の特別賞を受賞したことを発表します。地方発明表彰は、優れた発明、考案又は意匠を生み出した技術者・研究開発者を顕彰するため、大正10年に開始した歴史ある取組みです。
リガクグループは、この度の受賞を励みに、これからも科学技術の進歩を通して人類社会の発展に貢献することを目指してまいります。


【地方発明表彰受賞概要】

[画像1: https://prtimes.jp/i/132608/1/resize/d132608-1-09b74c1a335d15a438fa-0.png ]


「高精度薄膜（半導体）構造解析Ｘ線分析方法」で、
半導体製造過程の品質管理をより精緻なものに

「高精度薄膜（半導体）構造解析Ｘ線分析方法」は、Ｘ線を用いた半導体の膜構造解析に利用されています。本技術により、インラインでの膜厚、密度、界面の粗さ等の解析が実用化され、従来よりも短時間かつ高精度な測定によって、生産性と性能の向上を実現しました。また非破壊検査でウエハの破棄が不要のため、環境にも優しい検査が可能です。本技術はインラインＸ線膜厚・密度モニター　「MFM310」に搭載されており、ナノレベルの先端デバイス業界における研究、生産管理等の進化に大きく貢献しています。


受賞名：関東地方発明表彰特別賞「関東経済産業局長賞」　


発明名称：「高精度薄膜（半導体）構造解析Ｘ線分析方法」（特許第4041808号）


発明者：表　和彦　　実施功績賞：川上　潤


発明技術詳細：https://koueki.jiii.or.jp/hyosho/chihatsu/R5/jusho_kanto/detail/kanto_miti1.html　


製品詳細：https://japan.rigaku.com/ja/products/semi/mfm310　





[画像2: https://prtimes.jp/i/132608/1/resize/d132608-1-3dc2d47ca20b171ac8f2-1.jpg ]


「蛍光Ｘ線分析用点滴乾燥試料保持具」を用いた環境分析等で、より高感度な微量有害元素の検出を可能に

「蛍光Ｘ線分析用点滴乾燥試料保持具」は、液体試料中の微量元素の検出下限を、従来の点滴法と比べて一桁以上改善し、環境分析における有害微量元素の高感度分析を可能にしました。本技術によって、分析過程において発生する廃液の排出を抑制し、安全かつ環境に配慮した測定を実現しています。本技術は蛍光Ｘ線分析用点滴ろ紙「ウルトラキャリー(R)」で使用されており、河川、排水、土壌などの環境分析にとどまらず、様々な微量元素の品質管理で用いられています。


受賞名：近畿地方発明表彰特別賞「中小企業庁長官賞」


発明名称：「蛍光Ｘ線分析用点滴乾燥試料保持具」（特許第3793829号）


発明者：森山　孝男　実施功績賞：川上　潤


発明技術詳細：https://koueki.jiii.or.jp/hyosho/chihatsu/R5/jusho_kinki/detail/chusho2.html　


製品詳細：https://japan.rigaku.com/ja/support/xrfaccessory/xfsa0006　





【リガクグループについて】
リガクグループは、Ｘ線分析・熱分析・Ｘ線非破壊検査機器の世界的なソリューションパートナーとして、世界9カ国、従業員約1,800名と共に事業を展開しています。1951年の創業以来70年以上にわたり「科学技術の進歩を通して人類社会の発展に貢献する」という企業理念のもと、お客様と共に発展と成長を続けています。詳しくはhttps://japan.rigaku.com/jaをご覧ください。

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