山形にSiCエピタキシャルウェハー生産建屋が完成 竣工式を開催

株式会社レゾナック（代表取締役社長CEO：高橋秀仁）は、株式会社レゾナック・ハードディスク（社長：真壁保志）の山形工場（山形県東根市）にて、SiC（炭化ケイ素）エピタキシャルウェハー(以下SiCエピウェハー)の生産建屋竣工式を9月12日に開催しました。

本施設は、パワー半導体向けSiCエピウェハーの生産体制強化を目的として、2024年9月より建設を進めてきたものです。今回の新設は、経済産業省から2023年6月16日に認定を受けた、経済安全保障推進法＊に基づく特定重要物資である半導体部素材（SiCウェハー）の供給確保計画の実現に向けた取り組みの一環です。

竣工式には、地元東根市の鈴木敬一副市長や山形県をはじめとする関係者を迎え、株式会社レゾナック 業務執行役 デバイスソリューション事業部 事業部長 武田真人らが参加し、建屋の完成を祝うとともに、今後の安全な操業を祈願しました。今後、各種設備を導入し、生産に向けた準備を進めます。
なお、稼働開始は2026年を予定しています。

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竣工式の様子

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竣工式の様子

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生産建屋外観

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SiCエピタキシャルウェハー（左：150mm、右：200mm)

レゾナックグループは、「共創型化学会社」として、グローバル社会の持続可能な発展に貢献することを目指し、エネルギー効率化を実現するSiCエピウェハーをコア成長事業と位置付けて注力しています。今後も、“ベスト・イン・クラス”をモットーに、高性能で高い信頼性の製品を供給することで、SiCパワー半導体の普及に貢献していきます。

【概要】
所在地：山形県東根市大字東根甲
建築面積：5,832平方メートル
稼働開始：2026年（予定）

＊経済施策を一体的に講ずることによる安全保障の確保の推進に関する法律

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