大日本印刷 半導体関連の国際展示会「SEMICON Japan 2025」に出展

「EUVリソグラフィ用フォトマスク」や次世代半導体パッケージ向け「ガラスコア基板」などを展示



[動画: https://www.youtube.com/watch?v=7r7vmvbmVAo ]
大日本印刷株式会社（DNP）は、2025年12月17日（水）～19日（金）に東京ビッグサイト（国際展示場）で開催される「SEMICON Japan 2025」に出展します。
DNPは半導体関連事業を注力事業領域の一つに位置づけています。独自のコアテクノロジーである微細加工技術や精密塗工技術等を活用して、半導体製造につかう回路原版の「フォトマスク」や次世代半導体パッケージ用部材などを開発し、半導体関連のサプライチェーン全体に欠かせない価値を提供しています。
本展示会のDNPブース（東6ホール・小間番号：E5936）では、半導体の設計を含む「前工程」と、パッケージングなどの「後工程」を支援する多様な製品・サービスを紹介します。
＊「SEMICON Japan 2025」関連WebサイトURL → https://www.dnp.co.jp/biz/eventseminar/event/20177540_4966.html

[画像: https://prcdn.freetls.fastly.net/release_image/69194/939/69194-939-5ffd2308f2ac30ebda93fc07d9e54d47-3307x2339.jpg?width=536&quality=85%2C75&format=jpeg&auto=webp&fit=bounds&bg-color=fff ]
DNPブースイメージ

【DNPの主な出展内容について】
■半導体製造の「前工程」関連
○設計・開発の支援
DNPグループの株式会社DNPエル・エス・アイ・デザインが中心となって、LSI（大規模集積回路）の設計・試作・量産受託サービスの紹介とサンプルチップの展示を行います。

○半導体製造用原版「フォトマスク」
半導体製造の最先端プロセスであるEUV（Extreme Ultra-Violet：極端紫外線）リソグラフィに対応するペリクル（保護膜）付きフォトマスクの実物を展示します。EUV光の高透過率を実現するカーボンナノチューブ（CNT）ペリクルを装着させて展示します。

○ナノインプリントリソグラフィ（NIL：Nano-Imprint Lithography）用テンプレート
半導体製品の「微細化」「製造工程の低消費電力化」「製造コスト削減」を実現する技術として期待される「ナノインプリントリソグラフィ」に使用するテンプレート（原版）」を展示します。
顔認証等を支える3Dセンサーや、AR（拡張現実）グラス向けの回折光学素子向けのマスターテンプレートなども展示します。

○半導体関連の部材や素材の分析・評価サービス
DNPグループの株式会社DNP科学分析センターが提供する半導体チップ・素材の分析・評価サービスを紹介します。フォトマスクの製造用データを高速に表示・解析するビューワーソフト「HOTSCOPE」も展示します。

○半導体製品用機能性梱包材
独自のラミネート技術や成膜技術等を応用して、半導体の製造工程で必要な機能を付与した、工場の生産性を高める梱包材を展示します。

■半導体製造の「後工程」関連
○次世代半導体パッケージ用TGV（Through Glass Via：ガラス貫通電極）ガラスコア基板
従来の樹脂基板から置き換え可能な、高効率・大面積化に対応する「TGVガラスコア基板」を展示します。高密度なTGVによって、従来以上に高性能な半導体パッケージの提供が可能になります。

○光電融合チップレット向けガラスパネル
AIの普及にともなうデータセンターの消費電力増加という世界的な社会課題の解決に向けて、大容量・高速データ処理と省エネルギーの両立を可能にする高密度光導波路付き「光電コパッケージ基板」を展示します。

※記載した製品の仕様、サービス内容などは発表日現在のものです。その後予告なしに変更されることがありますので、あらかじめご了承ください。

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