Patentix株式会社のプレスリリース（ページ 2）

ルチル型二酸化ゲルマニウムのバルク結晶の合成に成功

• 発表会社
• Patentix株式会社

• 配信日時
• 2025-06-30 14:00:05

• 配信元
• PR TIMES

世界初 ルチル型GeO2結晶によるショットキーバリアダイオード動作を確認

• 発表会社
• Patentix株式会社

• 配信日時
• 2024-11-27 10:00:00

• 配信元
• PR TIMES

“世界初”ルチル型二酸化ゲルマニウム薄膜にてN型導電性を確認

• 発表会社
• Patentix株式会社

• 配信日時
• 2024-09-26 11:00:00

• 配信元
• PR TIMES

PATENTIX、二酸化ゲルマニウム（GeO2）の有償サンプル出荷に向け、クオルテックが出荷検査を行うことに両社基本合意を締結

• 発表会社
• Patentix株式会社

• 配信日時
• 2024-08-09 15:00:00

• 配信元
• PR TIMES

日清紡マイクロデバイス株式会社、琵琶湖半導体構想(案)に参画

• 発表会社
• Patentix株式会社

• 配信日時
• 2024-03-25 10:00:00

• 配信元
• PR TIMES

株式会社アイシン、琵琶湖半導体構想（案）に参画

• 発表会社
• Patentix株式会社

• 配信日時
• 2024-02-15 10:00:00

• 配信元
• PR TIMES

Patentix株式会社×株式会社クオルテック資本業務提携を締結、調印式を実施

• 発表会社
• Patentix株式会社

• 配信日時
• 2023-12-27 15:00:00

• 配信元
• PR TIMES

【世界初】Phantom SVD(ファントム局所的気相成長)法で4インチウエハ上への二酸化ゲルマニウム(GeO2)製膜に成功

• 発表会社
• Patentix株式会社

• 配信日時
• 2023-11-16 10:00:00

• 配信元
• PR TIMES

Patentix株式会社が「U-START UP KANSAI オープンピッチ」でNEDO賞を受賞

• 発表会社
• Patentix株式会社

• 配信日時
• 2023-09-27 08:50:00

• 配信元
• PR TIMES

【世界初】PhantomSVD(ファントム局所的気相成長)法でSiCへのルチル構造二酸化ゲルマニウム(r-GeO2)製膜に成功

• 発表会社
• Patentix株式会社

• 配信日時
• 2023-09-20 21:00:00

• 配信元
• PR TIMES