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産総研、フレキシブル基板上への超微細回路作成の新手法を開発
記事提供元:スラド
あるAnonymous Coward 曰く、 産業技術総合研究所(産総研)が、超微細回路を印刷する新技術を開発したと発表した(Nature掲載論文)。
線幅は0.8マイクロメートルのものが得られており、これはスクリーン印刷やインクジェット印刷より数十倍高細度としている。また作成時に真空環境が不要でで、高温処理しなくてもよいことなども利点のようだ。
簡単にこの手法の概略を説明すると、まずフッ素系ポリマーの薄層にフォトマスクを通して紫外線を照射することで、表面に化学的反応性の高いパターンが形成される。そこに銀ナノインクで濡らした板で掃引すると(プレスリリース内の動画参照)、パターン部分にだけ銀ナノインクが吸着する。銀ナノインクは銀ナノ粒子は表面がアルキルアミンで覆われているが、乾燥することで粒子同士が凝集、融着する。これにより銀配線が形成して十分高い導電性を示すようである。
論文ページの下の方にある「Supplementary Movie 2」に試作品と思わるものの動画もある。
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※この記事はスラドから提供を受けて配信しています。
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