新報国マテリアル　一時ストップ高、国際会議で最新の研究成果を発表と

2026年9月17日 14:37

*14:37JST 新報国マテリアル---一時ストップ高、国際会議で最新の研究成果を発表と
新報国マテリアル<a href="https://web.fisco.jp/platform/companies/0554200?fm=mj" target="_blank" rel="noopener noreferrer">＜5542＞</a>は一時ストップ高。国際会議「SPIE Photomask Technology + EUVL 2026」において、最新の研究成果を発表したとリリースしている。4年連続での論文発表となるが、今回は、光学機器の潜在的課題である「磁場環境下での変形」を克服する「ステンレスインバー IC-DX」の特異な等方性を実証し、グローバルな半導体業界へ向けて同社の技術的優位性を力強くアピールしたとしている。物色の手掛かり材料につながっているようだ。《AT》