キヤノン　反落、露光装置最大手のASMLが「後工程」に参入と

2026年1月21日 13:17

*13:17JST キヤノン---反落、露光装置最大手のASMLが「後工程」に参入と
キヤノン<a href="https://web.fisco.jp/platform/companies/0775100?fm=mj" target="_blank" rel="noopener noreferrer">＜7751＞</a>は反落。露光装置で世界最大手のASMLが「後工程」に参入と報じられている。チップ同士をつなぐ層に配線を描くための装置であり、現在は同社がその分野をほぼ独占する状況となっている。後工程の重要性が高まる中、装置メーカーの競争が激しくなっている格好。同社は11年に後工程向けの露光装置に参入、露光装置販売拡大のけん引役となっており、前工程で圧倒的なASMLの参入は脅威ともみられている。《YY》